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清洗机

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  • 在线水离子清洗机
    离子清洗机,又名等离子清洗机,是通过等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的清洗设备。它具有容易使用和保养的特点。触摸屏控制系统使用起来非常直观、简单,可以控制和监督水洗机的所有重要功能。

    基本配置

    一、离子清洗机概述

    离子清洗机,又名等离子清洗机,是通过等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的清洗设备。

    自1952年以来,“TDC公司”就一直给电子行业提供高质量的生产设备,并且由于我们优质的售后服务和技术支持而获得极高的声誉。此外,“TDC公司”走在世界清洗技术的前列,生产创新、优质、可靠的产品,同时又不对环境造成任何不良的影响。Nu/CLEAN型生产线水洗机是当今同类产品市场上最安全、最安静、最节能的产品。“TDC公司”还是第一个生产混合动力水洗机的公司, 供选用的混合动力Nu/CLEAN型水洗机因为使用天然气而不是电能来加热水洗机里面的水而可以大大节省能源成本。

    Nu/CLEAN型水洗机除了拥有这些技术和环保优势之外,它还具有容易使用和保养的特点。触摸屏控制系统使用起来非常直观、简单,可以控制和监督水洗机的所有重要功能。警报和保养显示屏让操作员能够马上知道需要采取什么措施。水箱、机柜以及控制系统的结构设计令日常保养工作既简单又快捷。

    “TDC公司”拥有几十年的水洗机生产经验和遍布各地的客户服务网络,是满足您清洗要求的最佳选择。

    二、离子清洗机的清洗原理

    无机气体被激发为等离子态→气相物质被吸附在固体表面→被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子→产物分子解析形成气相→反应残余物脱离表面。

    三、离子清洗机的清洗特点

    1、离子清洗机不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

    2、容易采用数控技术,自动化程度高。

    3、具有高精度的控制装置,时间控制的精度很高。

    4、正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层,表面质量得到保证。

    5、在真空中进行,不污染环境,保证清洗表面不被二次污染。

    四、离子清洗机的清洗分类及性能

    离子清洗机主要通过反应类型和激发频率两个方面来分类。

    1、反应类型分类

    等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应(离子轰击)和化学反应。

    1)物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面,使污染物脱离表面最终被真空泵吸走。物理反应为主的等离子体清洗,也叫做溅射腐蚀(SPE)或离子铣(IM),其优点:本身不发生化学反应,清洁表面不会留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化学纯净性。缺点:对表面产生了很大的损害,会产生很大的热效应,对被清洗表面的各种不同物质选择性差,腐蚀速度较低。典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。

    2)化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质,再由真空泵吸走挥发性的物质。化学反应为主的等离子体清洗的优点:清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效,缺点:表面产生氧化物。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼,容易与碳氢化合物发生反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物,去除表面的污染物。

    2、激发频率分类

    等离子态的密度和激发频率的关系式: nc=1.2425×108v2 ,其中nc为等离子态密度(cm-3),v为激发频(Hz)。 等离子体激发频率分为:频率为40kHz的等离子体为超声等离子体,13.56MHz的等离子体为射频等离子体,2.45GHz的等离子体为微波等离子体。超声等离子体的自偏压为1000V左右,射频等离子体的自偏压为250V左右,微波等离子体的自偏压很低,只有几十伏。超声等离子体发生的反应为物理反应,射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应,微波等离子体发生的反应为化学反应。

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